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陶瓷膜制作工艺有朋友了解吗?

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提问者:明宏旷| 成都| 1707次浏览
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已有3条回答

wjx_009
回答数:36463 | 被采纳数:15

泥料——切泥片——压坯——带模干燥——脱模——坯体干燥——磨坯——捺水施内釉——捺外水沾外釉——取釉——扫灰检验——装匣——烧成。


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冷暴力_5567
回答数:832 | 被采纳数:0

你好,A1203_Si02陶瓷膜的制备方法,步骤如下:
步骤1 :将支撑体所用原料混合搅拌均匀,使用共混粒子烧结法,在温度 12000C -1600℃下,烧结时间4-6h,自然降温得支撑体;
步骤2 :把不同配比的纳米Si02和水混合后在20℃左右的环境下陈化Mh,再加入不同比例的PVA和甘油作为添加剂得到制膜液;
步骤3 :将制膜液多次涂覆在陶瓷膜支撑体内表面上,至表面均匀为止,放置干燥,最后把干透后的陶瓷膜放入烧结炉中于800℃下烧结,即得A1203-Si02陶瓷膜。
进一步,所述的支撑体所用原料及各组分质量百分比分别为:陶瓷膜支撑体粉体 90-95 %,造孔剂1-5 %,粘结剂0.5-5 %,烧结助剂0.5-5 %。
进一步,所述的陶瓷膜支撑体粉体为纳米A1203,所述的粘结剂为聚乙烯醇、聚丙烯酸或酚醛树脂的任意一种或几种,所述的烧结助剂为高岭土、膨润土、氧化镁中的任意一种或者几种的混合,所述的造孔剂为碳粉。
进一步,所述的制膜液中各物料的组分分别为纳米Si02 13%, PVA 15%、甘油 10-22%、水 50-57%
进一步,所述的涂覆次数优选3-5次。
进一步,所述的分离层的厚度为50_60μm。
综上所述,本发明所述的A1203_Si02陶瓷膜,采用纳米Α1203作为主要原料,碳粉为造孔剂,利用共混粒子烧结法,制备纳米A1203支撑体,并且采用溶融-凝胶法在支撑体内表面上涂覆纳米Si02、PVA、甘油等材料组成的制膜液,形成A1203-Si02陶瓷膜,解决了制作成本高,膜孔径不均匀等问题。采用上述技术方案,具有成本低廉、简单易得、膜通量加大,机械强度高,耐污染。膜孔径均匀、膜壁薄,渗透通量大和节省原料、易于实现分离设备小型化、结构简单化等特点。
希望对你有所帮助,望采纳


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本命9少年
回答数:24814 | 被采纳数:3

你好,据我的了解陶瓷膜制作工艺具体地说是一种制取透明功能薄膜的三元金属氧化物陶瓷靶材的制备工艺,其特征在于:所有的原料混合均匀后,用冷压机压制成溅射靶材坯体,然后在常压、常气氛下将坯体高温烧结成陶瓷靶材。希望我的回答能够帮到你。


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