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平凡自我
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典型的间隙腐蚀，主要是由于间隙处属于高表面能部位利于吸附其他粒子(分子、原子)，且一旦进入形成稳定物质后又难以出来所以一旦有水和腐蚀性介质的进入就会形成缓慢的电化学腐蚀。
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典型的间隙腐蚀，主要是由于间隙处属于高表面能部位利于吸附其他粒子(分子、原子)，且一旦进入形成稳定物质后又难以出来所以一旦有水和腐蚀性介质的进入就会形成缓慢的电化学腐蚀。
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这个是间隙腐蚀，主要是由于间隙处属于高表面能部位 利于吸附其他粒子(分子、原子)，且一旦进入形成稳定物质后又难以出来， 所以一旦有水和腐蚀性介质的进入就会形成缓慢的电化学腐蚀。
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间隙腐蚀，主要是由于间隙处属于高表面能部位利于吸附其他粒子(分子、原子)，且一旦进入形成稳定物质后又难以出来所以一旦有水和腐蚀性介质的进入就会形成缓慢的电化学腐蚀。
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